Пащенко А.С., Пляка П.С., Пономаренко В.О. Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике. – Ростов н/Д: Изд-во ЮНЦ РАН, 2013. – 176 с. – ISBN 978-5-4358-0057-9

Авторы: Пащенко А.С., Пляка П.С., Пономаренко В.О.
Название издания: Ионно-плазменные технологии в микро- и наноэлектронике
Специфические сведения: –
Год выпуска: 2013
Количество страниц: 176
Тираж: 200 экз.
Формат: 60×90 1/16 (145×215 мм)
Переплет: твердый
Аннотация: Монография является результатом исследований, проводимых в ЮНЦ РАН в области ионно-плазменных технологий напыления тонких пленок. Детально рассмотрены методы ионно-лучевой кристаллизации и напыления в емкостном высокочастотном разряде в среде кислорода повышенного давления. Теоретически и экспериментально исследована зависимость процесса ионно-лучевой кристаллизации Si от параметров конфигурации системы «источник ионов – мишень – подложка». Экспериментально показана возможность формирования ионно-лучевой кристаллизацией фотоактивных гетероструктур InAs/GaAs с квантовыми точками. Исследован начальный этап газоразрядного напыления пленок на монокристаллические подложки. Обнаружена структурная модификация поверхностного слоя подложек на начальном этапе напыления пленок. Выполнены комплексные экспериментальные исследования электрических и оптических характеристик емкостного высокочастотного разряда в кислороде в процессе распыления мишени сложного оксида BiFeO3. Предложен и экспериментально обоснован механизм формирования осевого распределения свечения атомов металлов вблизи подложки. Проведены исследования распыления сложного оксида в импульсном режиме.
Издание адресовано специалистам, работающим в области ионно-плазменных технологий напыления тонких пленок, а также студентам и аспирантам, специализирующимся по этому направлению.
Цена (для книг из раздела «Книги в наличии»): –