Вакуумная установка для нанесения металлических покрытий C156RS

Тип испарителя:    магнетрон постоянного тока
Максимальный ток разряда:    50 мА
Внутренний диаметр вакуумной камеры:    156 мм
Высота вакуумной камеры:    150 мм
Диаметр столика для образцов:    100 мм
Максимальная скорость вращения столика:    20 об/мин.

Установка позволяет наносить тонкие пленки металлов (Au, Ag, Pt, Cu и др.) на поверхность образцов методом магнетронного распыле- ния. Полностью автоматическая установка C156RS, произведенная в Российской Федерации, позволяет наносить как сплошные покрытия, так и через маску. Важными особенностями установки C156RS являют- ся большая напылительная вакуумная камера (внутренний  диа метр – 156 мм, высота – 150 мм), большой столик для образцов (диам етр столика – 100 мм) с возможностью вращения для равномерного покрытия образца и высокий максимальный ток разряда (до 50 мА).